高純度・高密度・均一組織
半導体や電子部品製造分野の薄膜技術、表面改質に応える高機能･高精度な次世代素材です
高純度、均一組織、高密度、低ガス成分など、ターゲット材料･蒸着材料に要求される高品質をお約束できる製品です。
取扱用途・純度・材質
| 用途 | 純度 | 材質 |
|---|---|---|
| 磁気記録用薄膜 | 3N～4N | Ni、Co、Fe、Cr、Ni合金、Co合金、Cr合金 |
| 表示用薄膜 | 3N～4N | Cr、Mo、Ta、Ag合金 |
| 半導体・電子部品用薄膜 | 3N～6N | Mo、Ta、W、Ti、Ni |
| 光磁気記録用薄膜 | 3N | Gd-Fe-Co、Tb-Fe-Co、Al-Ti、Al、Ni |
| 装飾用薄膜、表面硬化用薄膜 | 2N～3N | Ni-Cr-Mo、Zr、Hf、Ti-Al-V、Cr、Ti |
| 抵抗用薄膜 | 3N | Ni-Cr、Ni-V |
酸化物系についても取り扱っておりますので、お問合せ下さい
