PRODUCT / TECHNICAL INFORMATION
製品・技術情報
高純度・均一組織・高密度
ターゲット材
半導体や電子部品製造分野の薄膜技術、表面改質に応える高機能･高精度な次世代素材です。
高純度、均一組織、高密度、低ガス成分など、ターゲット材料･蒸着材料に要求される高品質をお約束できる製品です。
スパッタリングや蒸着などの薄膜形成プロセスにおいて、ターゲット材は高精度で薄い金属膜や酸化膜を基板に付着させるために使われます。
ターゲット材は、金属や合金、酸化物、セラミックなど様々な形態で提供され、特定の物理的・化学的特性を持ちます。
これにより、電子機器、ディスプレイ、太陽電池、半導体製造などの多くの産業で利用されています。
ターゲット材の素材選定は、最終的な製品の特性や用途に合わせた調整が必要です。
使用用途
半導体や電子部品製造分野の薄膜技術・表面改質
| 用途 | 純度 | 材質 |
|---|---|---|
| 磁気記録用薄膜 | 3N～4N | Ni、Co、Fe、Cr、Ni合金、Co合金、Cr合金 |
| 表示用薄膜 | 3N～4N | Cr、Mo、Ta、Ag合金 |
| 半導体・電子部品用薄膜 | 3N～6N | Mo、Ta、W、Ti、Ni |
| 光磁気記録用薄膜 | 3N | Gd-Fe-Co、Tb-Fe-Co、Al-Ti、Al、Ni |
| 装飾用薄膜、表面硬化用薄膜 | 2N～3N | Ni-Cr-Mo、Zr、Hf、Ti-Al-V、Cr、Ti |
| 抵抗用薄膜 | 3N | Ni-Cr、Ni-V |
酸化物についても取り扱っておりますので、お気軽にお問い合わせください。
加工部品
産業機械、自動車、精密機器など多様な分野で使用される部品の加工に対応し、高精度かつ耐久性に優れた部品をご提供しています。
材料選定から加工、表面処理に至るまで一貫してサポートし、各加工メーカーとの連携により、部品の用途や使用環境に最適な特性を実現いたします。
お客様のニーズに合わせたオーダーメイドの加工で、高付加価値の製品をお届けします。